ダイオキシン類対策特別措置法に基づく排出基準

更新日:平成28年3月23日

ダイオキシン類対策特別措置法に基づく排出基準

(このページでは、Nm3とは、温度が0℃であって圧力が一気圧の状態に換算した排出ガス量のことです。)

大気基準適用の排出基準

 排出ガス中のダイオキシン類の排出基準は、施設の設置年月日及び種類に応じて次のとおり定められています。(法施行規則別表第1、法施行規則附則別表第2)

 

(単位 ng‐TEQ/Nm3) 

 特定施設の種類(大気基準適用施設)排出基準(注1)

標準酸素濃度
On

 

平成9年12月1日までに設置

平成9年12月2日から平成12年1月15日までに設置

平成12年1月16日以後に設置

1焼結炉 1

1

0.1

15

2製鋼用電気炉 5

0.5

0.5

Os

3亜鉛回収施設10

10

1

4アルミニウム合金製造施設 5

5

1

5

廃棄物焼却炉
(焼却能力が一時間当たり50kg以上)

一時間当たり4トン以上

1

0.1

0.1

 12
一時間当たり2トン以上4トン未満 5

1

1

一時間当たり0.2トン以上2トン未満

10

5

5

一時間当たり0.2トン未満※10

5※

5

※平成9年12月2日から平成12年1月15日に設置された焼却能力が1時間当たり0.2トン未満の廃棄物焼却炉のうち、火格子面積が2平方メートル未満のものは排出基準が10ng‐TEQ/Nm3です。
 

標準酸素濃度補正方式による補正
 ダイオキシン類の濃度は以下の式により算出された値とする。

 C = Cs ・ ( 21 − On )/(21 − Os )

C:Onにおける濃度(0℃,101.32キロパスカル)(単位 ng/Nm3)
Cs:排ガス中の実測濃度(0℃,101.32キロパスカル)(単位 ng/Nm3)
On:酸素換算する酸素の濃度(%)
Os:排出ガス中の酸素濃度(%)(ガス中の濃度が20%を超える場合はOs=20%とする)

水質基準対象施設に係る排出基準

水質基準適用事業場のダイオキシン類の排出基準は次のとおり定められています。 (法施行規則別表第2)

(単位 pg-TEQ/L)

特定施設の種類(水質基準対象施設)

排出基準

1硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設

10

2カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設
3硫酸カリウムの製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設
4アルミナ繊維の製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設
5担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設
6塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設
7カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
  イ 硫酸濃縮施設   ロ シクロヘキサン分離施設   ハ 廃ガス洗浄施設
8クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ 水洗施設   ロ 廃ガス洗浄施設
94―クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ ろ過施設   ロ 乾燥施設   ハ 廃ガス洗浄施設
102,3―ジクロロ―1,4―ナフトキノンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ ろ過施設   ロ 廃ガス洗浄施設
11ジオキサジンバイオレットの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ ニトロ化誘導体分離施設及び還元誘導体分離施設  
 ロ ニトロ化誘導体洗浄施設及び還元誘導体洗浄施設
 ハ ジオキサジンバイオレット洗浄施設
 ニ 熱風乾燥施設
12アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち、次に掲げるもの
 イ 廃ガス洗浄施設   ロ 湿式集じん施設
13亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ 精製施設   ロ 廃ガス洗浄施設   ハ 湿式集じん施設
14担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ ろ過施設   ロ 精製施設   ハ 廃ガス洗浄施設
15大気基準適用施設である廃棄物焼却炉から発生するガスを処理する施設のうち次に掲げるもの及び当該廃棄物焼却炉において生ずる灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの
 イ 廃ガス洗浄施設   ロ 湿式集じん施設
16廃PCB等又はPCB処理物の分解施設及びPCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設及び分離施設
17フロン類(CFC及びHCFC)の破壊(プラズマ反応法、廃棄物混焼法、液中燃焼法及び過熱蒸気反応法によるものに限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの
 イ プラズマ反応施設   ロ 廃ガス洗浄施設   ハ 湿式集じん施設
18下水道終末処理施設(1から17まで及び19に掲げる施設に係る汚水又は廃液を含む下水を処理するものに限る。)
191から17までに掲げる施設を設置する工場又は事業場から排出される水(1から17までに掲げる施設に係る汚水若しくは廃液又は当該汚水若しくは廃液を処理したものを含むものに限り、公共用水域に排出されるものを除く。)の処理施設(前号に掲げるものを除く。)

※2つ以上の対象施設があって、それらの廃水系統が一である場合で、異なる基準が定められているときは、最大の基準値を適用する。
※TEQ : 毒性等量。ダイオキシン類のうち最も毒性の強い 2,3,7,8-TCDDの毒性を1として他のダイオキシン類の毒性を表す換算係数(毒性等価係数:TEF)を決め、その係数により各ダイオキシン類の毒性の強さを換算したものを足し合わせた値をいう。

 

このページの作成所属
環境農林水産部 環境管理室事業所指導課 大気指導グループ

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